La estereolitografía (SLA) es un proceso de fabricación aditiva que funciona enfocando un láser UV sobre una cuba de resina de fotopolímero. Mediante software de fabricación asistida por computadora (CAM/CAD), el láser UV se utiliza para dibujar un diseño o forma preprogramada sobre la superficie de la cuba de fotopolímero. Los fotopolímeros son sensibles a la luz ultravioleta, por lo que la resina se solidifica fotoquímicamente y forma una sola capa del objeto 3D deseado. Este proceso se repite para cada capa del diseño hasta completar el objeto 3D.
CARMANHAAS podría ofrecer al cliente un sistema óptico que incluye principalmente un escáner galvanómetro rápido y una lente de escaneo F-THETA, expansor de haz, espejo, etc.
Cabezal de escáner Galvo de 355 nm
| Modelo | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Cabezal de escaneo sellado y refrigerado por agua | Sí | Sí | Sí |
| Apertura (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Ángulo de escaneo efectivo | ±10° | ±10° | ±10° |
| Error de seguimiento | 0,19 ms | 0,28 ms | 0,45 ms |
| Tiempo de respuesta escalonada (1 % de la escala completa) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
| Velocidad típica | |||
| Posicionamiento / salto | < 15 m/s | < 12 m/s | < 9 m/s |
| Escaneo de línea/escaneo de trama | < 10 m/s | < 7 m/s | < 4 m/s |
| Escaneo vectorial típico | < 4 m/s | < 3 m/s | < 2 m/s |
| Buena calidad de escritura | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
| Alta calidad de escritura | 550 cps | 320 cps | 180 cps |
| Precisión | |||
| Linealidad | 99.9% | 99.9% | 99.9% |
| Resolución | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Repetibilidad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Deriva de temperatura | |||
| Deriva de compensación | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| Desviación de compensación a largo plazo de más de 8 horas (después de 15 minutos de calentamiento) | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Rango de temperatura de funcionamiento | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ |
| Interfaz de señal | Analógico: ±10 V Digital: Protocolo XY2-100 | Analógico: ±10 V Digital: Protocolo XY2-100 | Analógico: ±10 V Digital: Protocolo XY2-100 |
| Requisito de potencia de entrada (CC) | ±15 V a 4 A RMS máximo | ±15 V a 4 A RMS máximo | ±15 V a 4 A RMS máximo |
355 nmF-Theta Lentees
| Descripción de la pieza | Distancia focal (mm) | Campo de escaneo (milímetros) | Entrada máxima Pupila (mm) | Distancia de trabajo (mm) | Montaje Hilo |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
Expansor de haz de 355 nm
| Descripción de la pieza | Expansión Relación | Entrada CA (milímetros) | Salida CA (mm) | Alojamiento Diámetro (mm) | Alojamiento Longitud (mm) | Montaje Hilo |
| BE3-355-D30:84,5-3x-A(M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:84,5-5x-A(M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:80.3-7x-A(M30*1-M43*0.5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90.0 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0,5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72.0 | M30*1-M43*0,5 |
Espejo de 355 nm
| Descripción de la pieza | Diámetro (mm) | Espesor (mm) | Revestimiento |
| 355 Espejo | 30 | 3 | HR a 355 nm, 45° AOI |
| 355 Espejo | 20 | 5 | HR a 355 nm, 45° AOI |
| 355 Espejo | 30 | 5 | HR a 355 nm, 45° AOI |
