SLA (estereolitografía) es un proceso de fabricación aditivo que funciona al enfocar un láser UV en un IVA de resina fotopolímera. Con la ayuda de la fabricación asistida por computadora o el software de diseño asistido por computadora (CAM/CAD), el láser UV se usa para dibujar un diseño o forma preprogramado en la superficie del IVA del fotopolímero. Los fotopolímeros son sensibles a la luz ultravioleta, por lo que la resina se solidifica fotoquímicamente y forma una sola capa del objeto 3D deseado. Este proceso se repite para cada capa del diseño hasta que el objeto 3D esté completo.
Carmanhaas podría ofrecer al cliente que el sistema óptico incluye principalmente escáner galvanómetro rápido y lente de escaneo F-theta, expansor de haz, espejo, etc.
Cabeza de escáner Galvo de 355 nm
| Modelo | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Cabezal de escaneo fría/sellado | Sí | Sí | Sí |
| Apertura (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Ángulo de escaneo efectivo | ± 10 ° | ± 10 ° | ± 10 ° |
| Error de seguimiento | 0.19 ms | 0.28 ms | 0,45 ms |
| Tiempo de respuesta del paso (1% de la escala completa) | ≤ 0.4 ms | ≤ 0.6 ms | ≤ 0.9 ms |
| Velocidad típica | |||
| Posicionamiento / salto | <15 m/s | <12 m/s | <9 m/s |
| Escaneo de línea/escaneo ráster | <10 m/s | <7 m/s | <4 m/s |
| Escaneo vectorial típico | <4 m/s | <3 m/s | <2 m/s |
| Buena calidad de escritura | 700 CPS | 450 CPS | 260 CPS |
| Alta calidad de escritura | 550 CPS | 320 CPS | 180 CPS |
| Precisión | |||
| Linealidad | 99.9% | 99.9% | 99.9% |
| Resolución | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Repetibilidad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Deriva de temperatura | |||
| Desplazamiento de la deriva | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| QVER 8 horas deriva de desplazamiento a largo plazo （Después de 15 minutos advertir）） | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Rango de temperatura de funcionamiento | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ |
| Interfaz de señal | Analógico: ± 10V Digital: protocolo XY2-100 | Analógico: ± 10V Digital: protocolo XY2-100 | Analógico: ± 10V Digital: protocolo XY2-100 |
| Requisito de potencia de entrada (DC) | ± 15V@ 4a max rms | ± 15V@ 4a max rms | ± 15V@ 4a max rms |
355 nmF-theta Lentees
| Descripción de la parte | Longitud focal (mm) | Campo de escaneo (mm) | Entrada máxima Alumno (mm) | Distancia de trabajo (mm) | Montaje Hilo |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85X1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85X1 |
| SL-355-610-840- (15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85X1 |
| SL-355-800-1090- (18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85X1 |
Expansión de haz de 355 nm
| Descripción de la parte | Expansión Relación | Entrada CA (mm) | Salida CA (mm) | Alojamiento Dia (mm) | Alojamiento Longitud (mm) | Montaje Hilo |
| BE3-355-D30: 84.5-3X-A (M30*1-M43*0.5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33: 84.5-5X-A (M30*1-M43*0.5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33: 80.3-7X-A (M30*1-M43*0.5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30: 90-8X-A (M30*1-M43*0.5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90.0 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30: 72-10X-A (M30*1-M43*0.5) | 10x | 10 | 33 | 46 | 72.0 | M30*1-M43*0.5 |
Espejo de 355 nm
| Descripción de la parte | Diámetro (mm) | Grosor (mm) | Revestimiento |
| 355 espejo | 30 | 3 | HR@355nm, 45 ° AOI |
| 355 espejo | 20 | 5 | HR@355nm, 45 ° AOI |
| 355 espejo | 30 | 5 | HR@355nm, 45 ° AOI |
