SLA (estereolitografía) es un proceso de fabricación aditiva que funciona enfocando un láser UV en una tina de resina de fotopolímero.Con la ayuda del software de fabricación asistida por computadora o de diseño asistido por computadora (CAM/CAD), el láser UV se utiliza para dibujar un diseño o forma preprogramada en la superficie de la tina de fotopolímero.Los fotopolímeros son sensibles a la luz ultravioleta, por lo que la resina se solidifica fotoquímicamente y forma una sola capa del objeto 3D deseado.Este proceso se repite para cada capa del diseño hasta que se completa el objeto 3D.
CARMANHAAS podría ofrecer al cliente el sistema óptico que incluye principalmente un escáner rápido de galvanómetro y lentes de escaneo F-THETA, expansor de haz, espejo, etc.
Cabezal de escáner Galvo de 355 nm
| Modelo | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Cabezal de escaneo sellado/enfriado por agua | Sí | Sí | Sí |
| Apertura (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Ángulo de escaneo efectivo | ±10° | ±10° | ±10° |
| Error de seguimiento | 0,19 ms | 0,28 ms | 0,45 ms |
| Tiempo de respuesta al paso (1% de la escala completa) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
| Velocidad típica | |||
| Posicionamiento/salto | < 15 m/s | < 12 m/s | < 9 m/s |
| Escaneo de líneas/escaneo de trama | < 10 m/s | < 7 m/s | < 4 m/s |
| Escaneo vectorial típico | < 4 m/s | < 3 m/s | < 2 m/s |
| Buena calidad de escritura | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
| Alta calidad de escritura | 550 cps | 320 cps | 180 unidades |
| Precisión | |||
| Linealidad | 99,9% | 99,9% | 99,9% |
| Resolución | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Repetibilidad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Deriva de temperatura | |||
| Deriva compensada | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| Qver 8 horas de deriva de compensación a largo plazo (después de 15 minutos de calentamiento) | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Rango de temperatura de funcionamiento | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ |
| Interfaz de señal | Analógico: ±10V Digital: protocolo XY2-100 | Analógico: ±10V Digital: protocolo XY2-100 | Analógico: ±10V Digital: protocolo XY2-100 |
| Requisito de energía de entrada (CC) | ±15V@ 4A RMS máx. | ±15V@ 4A RMS máx. | ±15V@ 4A RMS máx. |
355nmF-theta Lentees
| Parte Descripción | Longitud focal (mm) | Campo de escaneo (mm) | Entrada máxima Pupila (mm) | Distancia de trabajo (mm) | Montaje Hilo |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
Expansor de haz de 355 nm
| Parte Descripción | Expansión Relación | CA de entrada (mm) | Salida CA (mm) | Alojamiento Diámetro (mm) | Alojamiento Longitud (mm) | Montaje Hilo |
| BE3-355-D30:84,5-3x-A(M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:84,5-5x-A(M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:80.3-7x-A(M30*1-M43*0.5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90.0 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0,5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72.0 | M30*1-M43*0,5 |
Espejo de 355 nm
| Parte Descripción | Diámetro (mm) | Espesor(mm) | Revestimiento |
| 355 espejo | 30 | 3 | HR@355nm, 45° AOI |
| 355 espejo | 20 | 5 | HR@355nm, 45° AOI |
| 355 espejo | 30 | 5 | HR@355nm, 45° AOI |
